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SEM8000掃描電子顯微鏡

發(fā)布時間:2024-05-16
產(chǎn)品型號:BJMICRO SEM8000掃描電子顯微鏡
所屬分類:電子顯微鏡
詳情介紹

BJMICRO   SEM 掃描電子顯微鏡的品質(zhì)值得信賴, 可助工業(yè)質(zhì)量保證和失效分析實驗室一臂之力 

    在工業(yè)質(zhì)量、失效分析或研究環(huán)境中,由于掃描電子顯微鏡 可提供高分辨率成像和高空間分辨率元素化學(xué)信息,所以它 是金相學(xué)和失效分析應(yīng)用的理想之選。 

    專為日常檢測和分析應(yīng)用而設(shè)計,謹(jǐn)諾SEM 擁有先進的操作 

    設(shè)計理念,無論是經(jīng)驗豐富的顯微技術(shù)人員還是不具備掃描 顯微鏡專業(yè)知識的工程師,均可輕松上手。它能夠提供出色的高質(zhì)量數(shù)據(jù),特別適合于后續(xù)檢測中無法涂覆導(dǎo)電層的非 導(dǎo)電零部件。

  • 廣泛的適用性

   最高放大倍數(shù)300,000x

  • 大樣品臺尺寸

   樣品臺的移動范圍最高可達(dá) X=80mm,Y=60  mm

  • 實時導(dǎo)航

   光學(xué)導(dǎo)航實現(xiàn)快速準(zhǔn)確樣品定位與追溯

  • 效率高,維護方便

       15秒抽真空,30秒成像

  • 操作簡單

    即使沒有電鏡操作經(jīng)驗,培訓(xùn)30分鐘也能親自使用

  • 高分辨率表面形貌

    二次電子(SE) 成像-使用高達(dá)數(shù)納米的分辨率,輕松應(yīng)對幾乎所有亞微米級應(yīng)用

  • 穩(wěn)定可靠

    落地式設(shè)計,完全防震

    內(nèi)置磁屏蔽系統(tǒng)

    高容差、防呆設(shè)計

    電子光路免維護

  •   EDS

    選配強大的元素分析功能,元素分析與成像一樣簡單

掃描電鏡(SEM) 是一種多用途的分析工具,掃描電鏡以其高 分辨率、大景深和操作簡單等優(yōu)點,在多個領(lǐng)域發(fā)揮著重要 作用,具有廣泛的應(yīng)用范圍。 

  • 材料科學(xué)

         SEM 用于觀察和分析各種材料的微觀形貌、結(jié)構(gòu)和組成。例如,在材料制備過程中,它可以用來分析陶瓷、金屬、高分子材料等顯微結(jié)構(gòu)。 

  • 生物和醫(yī)學(xué)領(lǐng)域

           SEM 可以觀察細(xì)胞和組織的超微結(jié)構(gòu),有助于探明病因、治療疾病以及研究生命活動的規(guī)律。 

  • 半導(dǎo)體行業(yè)

           SEM 用于電子半導(dǎo)體行業(yè)的多種檢測,如LCD 增亮膜、電子元器件焊點、晶圓雜質(zhì)、半導(dǎo)體元器件和微納加工的檢測。 

  • 納米科技

           SEM直接觀察納米材料的結(jié)構(gòu),顆粒尺寸、分布、均勻度及團聚情況,并結(jié)合能譜分析納米材料的微區(qū)成分。 

  • 工業(yè)檢測

           SEM用于汽車車衣、防偽涂層、微礦粉、金剛砂等多種工業(yè)產(chǎn)品的檢測。 

  • 地質(zhì)勘探和考古學(xué)

           SEM 用于古生物形態(tài)分析、鑒定和巖石樣品的潤濕性特征研究等。 

  • 其他應(yīng)用

    包括粉末、微粒、鍍層厚度、機械零件失效分析、刑偵案件物證分析與鑒定等。 

  • 所見即所得 

    通過分析自然狀態(tài)下的樣品,獲得精準(zhǔn)且質(zhì)量優(yōu)異的圖像和數(shù)據(jù)當(dāng)然,有時不希望將某一特殊零部件移至掃描電子顯微鏡下,因為非導(dǎo)電表面會在電子束的作用下充電。在多模式質(zhì)量保證或失效分析工作流程中使用的零部件不得進行改性。 

 

石墨

 

纖維

 

血液分析

 

生物樣本分析

OLED

首飾

 

陶瓷

 

IC

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

能譜儀

   

能譜儀(EDS)主要是用來對材料微區(qū)元素 組成進行定性、定量分析的一種科學(xué)儀器。 廣泛應(yīng)用于各種材料的元素分析,如金屬、 陶瓷、混凝土、生物、礦物、纖維等無機或有機固體材料分析等。 

   

離子濺射儀

離子濺射儀,采用旋片泵快速產(chǎn)生一個<3 Pa的真空壓強,通常抽真空時間小于2分鐘。采用磁控濺射技術(shù),以大幅度減少等離子體對樣品的熱影響和離子轟擊損傷。特別適用于臺式燈 絲SEM 電鏡樣品的噴金、噴鉑等貴金屬鍍膜用途。

 

技術(shù)參數(shù)

靶的尺寸 

直徑32×0.1-2 mm 

離子流控制范圍 

19mA 

樣品室內(nèi)徑 

120×120 mm石英玻 

旋片式機械真空泵 

10L/min 

外形尺寸 

360(W)x250(D)x330(H)mm 

電源 

220V,60Hz,500W 

型號 

SEM 8000 

放大倍率

1.0x~300,000x(圖像放大倍率) 

二次電子分辨率 

3.0nm(加速電壓30kv,高真空) 

 

10.0nm(加速電壓5kv,高真空) 

加速電壓 

1.0kv~30kv 

樣品最大尺寸

80mm(直徑),40mm(厚度) 

圖像位移 

±50μm(工作距離=8mm) 

載物臺

電動軸 

5軸電動(X,Y,R,T,Z) 

 

運動行程 

X:0~80 mm,Y:0~60mm,R:360

 

 

Z:0~50   mm ,T:0? ~+90°

電子鏡

電子槍

預(yù)對中型鎢燈絲電子槍 

 

檢測系統(tǒng) 

二次電子探測器,高靈敏度 

 

EDS分析WD(工作距離) 

WD=10mm(T.O.A=25°) 

圖像顯示 

圖像保存 

640x480/1280x960/2560x1920/5120x3840 px 

 

圖像格式 

24液晶顯示器(BMP/TIFF/JPEG) 

 

主機 

Windows 10(HDD:500G,內(nèi)存:4GB) 

真空系統(tǒng) 

渦輪分子泵 

1臺泵,80 L/s 

 

機械泵 

1臺泵,100 L/min(60Hz) 

 

X射線能譜儀(EDS)(Bruker Nano GmbH/AMETEK/Oxford Instruments) 

 

BSE(背散射電子探測器) 

 

低真空系統(tǒng) 

 

740mm(W)x700mm(D)x1,400mm(H) 

安裝要求

溫度:22℃±5℃,濕度:小于80% 

 

電源:210~240VAC,1Kw,50/60Hz 

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